Исследовательское подразделение корпорации IBM достигло новых успехов в области применения нанотехнологий в производстве полупроводниковых схем. На проходящей в столице США Вашингтоне отраслевой конференции сотрудники IBM Чак Блэк и Кэтрин Гуарини представили новый способ изготовления сверхминиатюрных полупроводниковых схем. Новая технология позволяет получать на схеме элементы молекулярных размеров.

В IBM использовали весьма оригинальный подход. Большинство исследователей пытаются конструировать сверхминиатюрные электронные схемы непосредственно из молекул, в том числе полимерных. Блэк и Гуарини избрали другой путь. Они использовали полимерные молекулы в качестве матрицы для изготовления схем традиционным фотолитографическим способом. Тип полимера был подобран таким образом, чтобы распределение его молекул отвечало расположению различных элементов схемы. Как и в случае традиционной фотолитографической маски, некоторые из областей полимерной матрицы пропускали излучение, воздействующее на подложку, а другие, напротив, блокировали это излучение.

В рамках эксперимента на базе новой технологии были изготовлены несколько схем флэш-памяти. Конечно, элементы этих схем не столь миниатюрны, как в случае конструирования чипов из отдельных молекул, однако преимуществом новой технологии является применение фотолитографии и традиционных кремниевых подложек. Это позволяет реализовать промышленный процесс на основе уже внедренных систем фотолитографии, что проще и дешевле, чем организовывать принципиально новые линии для производства полупроводниковых схем. В IBM обещают вывести новую технологию на рынок уже через три-четыре года.